而直流功率電感生產(chǎn)商波形對(duì)電鍍沉積的影響目前還難以從理論上進(jìn)行預(yù)測(cè)，只能通過(guò)大量的試驗(yàn)來(lái)作相對(duì)比較，篩選出適宜的波形。

    2·電鍍電源對(duì)電鍍工藝的影響

    2.1鍍鉻

    各類電鍍工藝中，鍍鉻是受電源波形影響最大的鍍種之一。鍍鉻必須采用低紋波直流電源，否則光亮范圍窄，鍍層易發(fā)花、發(fā)灰，這一點(diǎn)已為不少人認(rèn)同，但實(shí)踐中仍有因?qū)ζ湔J(rèn)識(shí)不足，往往由于紋波系數(shù)過(guò)大影響套鉻質(zhì)量而束手無(wú)策的事時(shí)有發(fā)生。因此，電鍍電源的選擇就更顯重要。

    對(duì)于經(jīng)常使用反向電解的電鍍硬鉻生產(chǎn)，需要電源極性換向裝置。一體電感制作簡(jiǎn)單的方法是使用手動(dòng)換向開(kāi)關(guān)。由于電流很大，開(kāi)關(guān)通、斷時(shí)會(huì)形成較大的電火花，開(kāi)關(guān)很容易損壞。將觸點(diǎn)浸入功率電感變壓器油中可以延長(zhǎng)使用壽命。可控硅整流器實(shí)現(xiàn)換向比較容易，由于是無(wú)觸點(diǎn)換向，不會(huì)產(chǎn)生火花腐蝕。如電流變化不大時(shí)，可考慮使用可控硅極換向裝置。

    電源波形對(duì)鍍鉻的影響較大。而且往往容易被操作者忽視。如某廠小件鍍裝飾鉻，覆蓋能力非常差，反復(fù)調(diào)整鍍液中硫酸與鉻酐的比值，仍無(wú)效。經(jīng)現(xiàn)場(chǎng)查驗(yàn)，采用1000A老式可控硅整流器一體成型電感器生產(chǎn)廠家，且平均電流僅200A左右，負(fù)荷率很低，顯然輸出紋波系數(shù)太大。換接一臺(tái)雙反星形輸出的硅整流器，鍍鉻即轉(zhuǎn)為正常。另有某廠鍍鉻上午生產(chǎn)正常，下午即出現(xiàn)裝飾鉻局部發(fā)灰，無(wú)法生產(chǎn)，懷疑鍍液故障，反復(fù)加硫酸、碳酸鋇調(diào)整一兩天，均無(wú)法解決。分析原因，鍍液成分不可能突變，懷疑硅整流管有損壞造成波形殘缺而增大紋波。用鉗形電流表測(cè)定各整流管電流，發(fā)現(xiàn)斷路2支，更換新管后，故障消除。

    鍍微裂紋硬鉻，輸出紋波過(guò)大時(shí)，裂紋不細(xì)密且分布不均勻。

    采用脈沖電鍍鉻，也可得到優(yōu)良的鍍層。研究表明，當(dāng)采用工藝條件為：頻率1000Hz，占空比通：斷=1/5，平均電流密度40A/dm2，30度溫度，獲得的鍍鉻層耐磨性提高三倍;耐腐蝕性提高5倍。

    2.2光亮酸性鍍銅

    一般情況下，光亮鍍銅都有一個(gè)規(guī)律：從赫爾槽試片上看，陰極電流密度越大的地方，鍍層光亮整平性越好;電流密度越低，光亮整平性越差。試圖擴(kuò)展低電流密度區(qū)光亮范圍，始終是電鍍工作者不斷追求的目標(biāo)。需要從光亮劑、工藝配方與工藝條件、設(shè)備等多方面入手。光亮酸性鍍銅是迄今光亮整平性最好的鍍種之一。但在實(shí)踐中，采用同樣的配方、工藝條件，使用相同的光亮劑，得到的光亮整平性與光亮范圍，卻可能出現(xiàn)較大差異。究其原因，與所用直流電源輸出紋波系數(shù)大小有很大關(guān)系。據(jù)有關(guān)資料，二十多年前，國(guó)內(nèi)在開(kāi)發(fā)MN系列光亮酸性鍍銅添加劑時(shí)就已證實(shí)。規(guī)律是：輸出紋波系數(shù)越小，鍍層光亮整平性越好，光亮電流密度范圍越寬。而且，紋波越小，光亮劑的用量也會(huì)越小。遺憾的是時(shí)至今日并未引起電鍍工藝技術(shù)人員的重視。